【ITBEAR科技资讯】12月25日消息，据可靠消息源披露，佳能高管在最近的一次采访中透露了关于纳米压印技术的惊人发展，该技术据称可生产电路线宽仅为2纳米的产品，而这一领域的独家领先地位仅由佳能一家所占有。
佳能半导体机器业务部长岩本和德解释道，纳米压印技术的核心原理是将半导体电路图刻在掩膜上，然后将其压印到晶圆上，仅需一次压印即可形成电路。通过不断改进掩膜，甚至可以实现电路线宽为2纳米的产品制造。
这项技术的应用将使客户的实际成本降低至传统光刻设备的一半，而且由于纳米压印设备的体积较小，因此在研发等方面的引入变得更加便捷。
当被询问是否存在其他竞争公司时，岩本和德表示，全球范围内，只有佳能公司在半导体光刻领域进行了纳米压印设备的业务，其准入门槛相当高。
自2017年左右开始，佳能一直在与铠侠和大日本印刷等公司持续合作开发这一技术。岩本和德补充说：“目前，我们已经可以看到纳米压印技术在量产方面取得了实质性进展，我们相信不久将能够面向客户销售。”
他还表示，佳能已经收到了来自半导体制造商、大学和研究机构的许多咨询，因为引入EUV光刻设备需要巨额成本，而作为替代方案的纳米压印技术备受期待。
