在2025年的SEMICON China展会上,深圳半导体设备制造商——思凯瑞工业机械有限公司(SiCarrier Industrial Machines Co., Ltd.)惊艳亮相,一次性推出了五款全新的半导体工艺设备,旨在打破国外企业在这一领域的垄断地位。
3月26日至27日,于上海举办的此次盛会见证了SiCarrier的崛起。该公司展出了外延沉积设备(EPI)、原子层沉积设备(ALD)、物理气相沉积设备(PVD)、刻蚀设备(ETCH)和化学气相沉积设备(CVD)等五大类产品,吸引了业内专家、潜在客户及竞争对手的广泛关注。
SiCarrier,这家由国家支持且与科技巨头华为有着紧密联系的企业,专注于半导体设备及电子制造工具的研发与生产。其母公司思凯瑞科技成立于2021年,而SiCarrier工业机械有限公司则于次年问世,两者均隶属于深圳市重大产业投资集团旗下,由深圳市国资委监管。
此次推出的新设备覆盖了半导体生产的关键环节,如用于先进节点和第三代半导体外延生长的外延设备、实现5纳米以下精度薄膜沉积的原子层沉积设备,以及适用于多种制造流程的化学气相沉积设备等。这些领域长期被应用材料(AMAT)、东京毅力电子(TEL)和ASM等国际巨头所主导。
目前,国外供应商在这些工艺设备市场上占据了主导地位。例如,AMAT和TEL在外延设备领域领先,而ALD市场则主要由ASM和TEL控制,两者合计市场份额超过60%。在PVD设备方面,AMAT更是以85%的市场份额独占鳌头。SiCarrier的最新产品旨在打破这一局面,其采用的先进反应室设计能够实现纳米级薄膜均匀性控制。
SiCarrier还展示了其支持14纳米及以下节点的下一代光刻胶涂布与显影设备,这也是长期以来被国外企业所控制的领域的一大突破。
除了沉积工具外,SiCarrier还推出了半导体检测和测量解决方案,这是芯片制造质量控制的关键环节。公司已开发出13种关键检测设备,包括光学检测(BFI)、光学测量(IBO)、PX测量(AFM)以及功率器件测试(RATE-CP)等,广泛应用于逻辑、存储和化合物半导体制造领域。
随着工艺节点缩小至14纳米及以下,检测和测量在提升半导体良率方面变得尤为重要。行业分析师指出,缺陷检测精度的轻微下降都可能对整体晶圆良率产生重大影响,因此高精度测量工具成为制造商不可或缺的投资。
根据VLSI Research的数据,2023年全球半导体检测和测量市场规模达到128.3亿美元,中国市场则达到43.6亿美元。尽管市场规模庞大,但国内制造商在与国外成熟企业的竞争中仍处于劣势。不过,从2019年至2023年,中国企业在计量领域的市场份额已从0.61%增长至4.34%,显示出本地化进程的加速。
SiCarrier在光学系统、材料和工艺控制技术方面已累计获得80余项专利。最近的专利申请包括热辐射结构、工艺室设计和静电吸盘技术等方面的创新,这些技术解决了晶圆处理中的电荷耗散挑战。
目前,SiCarrier已开发出六大类半导体工具,并计划继续提升其技术能力。深圳作为中国半导体行业的重要枢纽,虽然在芯片设计方面表现突出,但在制造领域一直相对落后。SiCarrier的崛起,无疑为深圳乃至中国半导体制造业注入了新的活力。