ASML高管坦言：美禁售EUV光刻机，中国芯片技术差距拉大

在全球芯片制造领域，光刻技术扮演着举足轻重的角色。当前，几乎所有的高端芯片生产都离不开这一关键技术，而ASML公司凭借其在EUV（极紫外光刻）和浸润式DUV（深紫外光刻）光刻机方面的垄断地位，对全球晶圆厂产生了深远的影响。

ASML的成功不仅在于其技术领先，还因为它与美国形成了紧密的合作关系。美国通过控制ASML的光刻机销售，间接掌握了全球芯片制造产业的命脉，特别是在先进制程领域。这种联盟不仅强化了美国在半导体行业的地位，也对其他国家，尤其是中国的芯片产业发展构成了挑战。

ASML的EUV光刻机是目前全球唯一能够制造7nm及以下工艺芯片的设备，而中国在先进制程芯片方面一直受制于美国对ASML光刻机的出口限制。尽管中国芯片厂商对EUV光刻机有着迫切的需求，但美国始终拒绝批准ASML向中国出售这种高端设备。中国目前只能购买到ASML的浸润式DUV光刻机，而即便是这种设备，最新的型号也需要获得许可证才能购买。

ASML的首席执行官Christophe Fouquet在最近的一次采访中直言，由于美国的出口禁令，中国芯片制造技术相较于西方落后了10至15年。这一观点虽然听起来有些夸张，但仔细分析却不难发现其中的合理性。以中芯国际为例，如果在2019年能够成功引进ASML的EUV光刻机，凭借其技术团队的努力，很可能已经在3nm工艺上取得了突破。然而，由于美国的限制，中芯国际至今未能进入5nm工艺，其对外公布的最新工艺仍然停留在14nm。

中芯国际的遭遇只是中国芯片产业受制于人的一个缩影。从公开的14nm工艺到台积电即将推出的2nm工艺，中国芯片产业确实存在不小的差距。这种差距不仅体现在制程工艺上，更体现在整个产业链的布局和技术积累上。

面对这样的困境，中国芯片产业必须自力更生，加快国产光刻机的研发进程。首先，要攻克浸润式DUV光刻机的技术难关，逐步减少对进口设备的依赖。在此基础上，再向更高难度的EUV光刻机发起挑战。一旦国产EUV光刻机实现突破，中国芯片产业将彻底摆脱受制于人的局面，甚至有可能利用自身的规模优势反超美国。